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                纳米研磨抛光半导体专用抛光液

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                品牌: CL
                单价: 面议
                起订:
                供货总量:
                发货期限: 自买家付款之日起 3 天内发货
                所在地: 广东 东莞市
                有效期至: 长期有效
                最后更新: 2020-06-23 16:38:35
                浏览次数: 1
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                产品详细说明

                半导体专用抛光液:

                主要由高纯度的胶态氧化硅微粒所组成,可避免加工元件产生刮伤的现象,特别适合用于砷化镓、锗片、磷化铟、氮化镓、碳化硅、单晶硅、多晶硅、铌酸锂、碳酸锂、硫系红外玻璃珠中抛或精抛。

                产品详情:

                外观

                粒径(nm)

                Sio2含量(%)

                PH值

                密度g/ml

                乳白色 90-11039-419.0-11.0≥1.25

                常规包装:25KG/桶

                储存方式:存放温度为5°C~30°C,常规温度25°C,避免阳光照ζ 射

                保质期限:弱碱性抛光液保质期限ζ为1年

                稀释比例:稀释需〖要去离子或蒸馏水,建议稀释比○例1:1~1:5

                常规包装:25KG/桶

                储存方式:存放温度为5°C~30°C,常规温度25°C,避免阳光照射

                保质期限:弱碱性抛光液保质期限为1年

                稀释比例:稀释需要去离子或蒸馏水,建议稀释比例1:1~1:5

                常规包装:25KG/桶

                储存方式:存放温度为5°C~30°C,常规温度25°C,避免阳光照射

                保质期限:弱碱性抛光液保质期限为1年

                稀释比例:稀释需要去离子或蒸馏水,建议稀释比例1:1~1:5

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